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电子级三氟化氮
中国南宫娱乐NG28 > 资料科学
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NF3气体在高能化学激光、电子工业(IC)以及太阳能光电产业等方面拥有极度宽泛的利用。目前,昊华气体占有一条年产2000吨的NF3出产线,其出产工艺、设备均处于国内当先职位。
产品个性
NF3在室和善大气压力下是无色、不变和有毒的气体。相对分子质量为71.002,沸点为-129.06℃。
利用注明
三氟化氮在微电子工业中作为一种良好的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮拥有优异的蚀刻速度和选择性(对氧化硅和硅),它在蚀刻时,在蚀刻物表表不留任何残留物,是极度优良的洗濯剂。
利用领域
电子电器
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